表面と薄膜分析技術の基礎

L.C.フェルドマン, J.W.メイヤー 著 ; 栗山一男, 山本康博 訳

本書では、イオン、電子、光子等の固体内の振舞いを示すとともに、その結果として生ずる現象を材料分析に応用する際の理論的根拠、分析を行うための装置構成、さらには実際の分析を行う際に遭遇するであろう問題点を、豊富な例題をまじえて解説している。

「BOOKデータベース」より

[目次]

  • 1章 序章-概念、単位、そしてボーア原子
  • 2章 原子衝突と後方散乱法
  • 3章 軽イオンのエネルギー損失と深さプロファイル
  • 4章 スパッタによる深さプロファイル-2次イオン質量分析法
  • 5章 チャネリング
  • 6章 電子‐電子相互作用と分子分光法の深さ感度
  • 7章 表面構造解析
  • 8章 固体中の光子吸収とEXAFS
  • 9章 X線光電子分光法(XPS)
  • 10章 放射遷移と電子マイクロプローブ
  • 11章 非放射遷移とオージェ電子分光法
  • 12章 核技術-放射化分析と即発放射線分析

「BOOKデータベース」より

この本の情報

書名 表面と薄膜分析技術の基礎
著作者等 Feldman, Leonard C
Mayer, James W
山本 康博
栗山 一男
メイヤー J.W.
フェルドマン L.C.
書名ヨミ ヒョウメン ト ハクマク ブンセキ ギジュツ ノ キソ
書名別名 Fundamentals of surface and thin film analysis
出版元 海文堂
刊行年月 1989.6
ページ数 353p
大きさ 22cm
ISBN 4303712000
NCID BN03575514
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全国書誌番号
89047543
※クリックで国立国会図書館サーチを表示
言語 日本語
原文言語 英語
出版国 日本
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