半導体評価技術

河東田隆 編著

[目次]

  • 1 半導体デバイスプロセスと評価
  • 2 半導体結晶の不完全性と評価
  • 3 評価の目的と評価技術の選択
  • 4 評価のための基礎技術
  • 5 顕微鏡・電子線およびX線用いた構造評価技術
  • 6 電気的評価技術
  • 7 光学的評価技術
  • 8 機器分析

「BOOKデータベース」より

この本の情報

書名 半導体評価技術
著作者等 奥村 次徳
河東田 隆
菅野 卓雄
書名ヨミ ハンドウタイ ヒョウカ ギジュツ
シリーズ名 集積回路プロセス技術シリーズ
出版元 産業図書
刊行年月 1989.2
ページ数 330p
大きさ 22cm
ISBN 478285627X
NCID BN03233656
※クリックでCiNii Booksを表示
全国書誌番号
89026910
※クリックで国立国会図書館サーチを表示
言語 日本語
出版国 日本
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