超LSI材料・プロセスの基礎

岸野正剛 著

本書はVLSI技術の総合理解のために、特に材料や個別要素技術に携わる方々に必要なデバイス特性、特性の不良原因、特性に向上などや材料、プロセスの関係についての知識を得られるようにしました。

「BOOKデータベース」より

[目次]

  • 1章 LSI技術の概論
  • 2章 デバイスの基本特性の不良原因
  • 3章 結晶
  • 4章 酸化
  • 5章 不純物の拡散とイオン打込み
  • 6章 堆積薄膜
  • 7章 デバイス、プロセスの最近の話題

「BOOKデータベース」より

この本の情報

書名 超LSI材料・プロセスの基礎
著作者等 岸野 正剛
書名ヨミ チョウ エルエスアイ ザイリョウ プロセス ノ キソ
出版元 オーム社
刊行年月 1987.12
ページ数 226p
大きさ 22cm
ISBN 4274031853
NCID BN01884879
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全国書誌番号
88014988
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言語 日本語
出版国 日本
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