ヒューム・ロザリー電子濃度則の物理学

水谷宇一郎, 佐藤洋一 共著

[目次]

  • 第1章 ヒューム・ロザリー電子濃度則とは
  • 第2章 WIEN2kを用いたFLAPW‐Fourier解析法
  • 第3章 周期律表元素の電子構造とe/aの決定
  • 第4章 結合形態による金属間化合物の分類
  • 第5章 Al‐およびZn‐基金属間化合物のヒューム・ロザリー電子濃度則
  • 第6章 ジントル化合物のヒューム・ロザリー電子濃度則
  • 第7章 P‐基金属間化合物のヒューム・ロザリー電子濃度則
  • 第8章 ヒューム・ロザリー電子濃度則と干渉条件
  • 第9章 ヒューム・ロザリー電子濃度則の材料開発への応用

「BOOKデータベース」より

この本の情報

書名 ヒューム・ロザリー電子濃度則の物理学
著作者等 Hume-Rothery, William
佐藤 洋一
水谷 宇一郎
書名ヨミ ヒューム ロザリー デンシ ノウドソク ノ ブツリガク : エフエルエーピーダブリュー フーリエ リロン ニ ヨル デンシ キノウ ザイリョウ カイハツ
書名別名 FLAPW-Fourier理論による電子機能材料開発
出版元 内田老鶴圃
刊行年月 2015.10
ページ数 231p
大きさ 21cm
ISBN 978-4-7536-2101-9
NCID BB19652405
※クリックでCiNii Booksを表示
全国書誌番号
22652542
※クリックで国立国会図書館サーチを表示
言語 日本語
出版国 日本
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