|
ヒューム・ロザリー電子濃度則の物理学
水谷宇一郎, 佐藤洋一 共著
[目次]
- 第1章 ヒューム・ロザリー電子濃度則とは
- 第2章 WIEN2kを用いたFLAPW‐Fourier解析法
- 第3章 周期律表元素の電子構造とe/aの決定
- 第4章 結合形態による金属間化合物の分類
- 第5章 Al‐およびZn‐基金属間化合物のヒューム・ロザリー電子濃度則
- 第6章 ジントル化合物のヒューム・ロザリー電子濃度則
- 第7章 P‐基金属間化合物のヒューム・ロザリー電子濃度則
- 第8章 ヒューム・ロザリー電子濃度則と干渉条件
- 第9章 ヒューム・ロザリー電子濃度則の材料開発への応用
「BOOKデータベース」より
|
書名 |
ヒューム・ロザリー電子濃度則の物理学 |
著作者等 |
Hume-Rothery, William
佐藤 洋一
水谷 宇一郎
|
書名ヨミ |
ヒューム ロザリー デンシ ノウドソク ノ ブツリガク : エフエルエーピーダブリュー フーリエ リロン ニ ヨル デンシ キノウ ザイリョウ カイハツ |
書名別名 |
FLAPW-Fourier理論による電子機能材料開発 |
出版元 |
内田老鶴圃 |
刊行年月 |
2015.10 |
ページ数 |
231p |
大きさ |
21cm |
ISBN |
978-4-7536-2101-9
|
NCID |
BB19652405
※クリックでCiNii Booksを表示
|
全国書誌番号
|
22652542
※クリックで国立国会図書館サーチを表示
|
言語 |
日本語 |
出版国 |
日本 |
この本を:
|

件が連想されています

|