ナノテクノロジーとレジスト材料

山岡亞夫 監修

[目次]

• 第1編 トップダウンテクノロジー(ナノテクノロジーの概要-広がりゆくナノテクノロジー
• ギガビットからテラビットを目指したリソグラフィーと材料
• X線リソグラフィ
• 超微細加工におけるリソグラフィプロセスの限界)
• 第2編 広がりゆく微細化技術(高密度化するプリント配線技術と感光性樹脂
• 微細化するスクリーン印刷
• デジタル化と印刷製版
• ヘテロ系記録材料と特徴)
• 第3編 新しいレジスト材料(分子協調材料によるナノパターニング
• 走査プローブ顕微鏡のナノリソグラフィーへの応用
• 近接場光
• 表面反応
• 自己組織化
• 光プロセスと応用
• ナノインプリントへの挑戦と応用分野)

「BOOKデータベース」より