ナノテクノロジーとレジスト材料

山岡亞夫 監修

[目次]

  • 第1編 トップダウンテクノロジー(ナノテクノロジーの概要-広がりゆくナノテクノロジー
  • ギガビットからテラビットを目指したリソグラフィーと材料
  • X線リソグラフィ
  • 超微細加工におけるリソグラフィプロセスの限界)
  • 第2編 広がりゆく微細化技術(高密度化するプリント配線技術と感光性樹脂
  • 微細化するスクリーン印刷
  • デジタル化と印刷製版
  • ヘテロ系記録材料と特徴)
  • 第3編 新しいレジスト材料(分子協調材料によるナノパターニング
  • 走査プローブ顕微鏡のナノリソグラフィーへの応用
  • 近接場光
  • 表面反応
  • 自己組織化
  • 光プロセスと応用
  • ナノインプリントへの挑戦と応用分野)

「BOOKデータベース」より

この本の情報

書名 ナノテクノロジーとレジスト材料
著作者等 山岡 亜夫
山岡 亞夫
書名ヨミ ナノテクノロジー ト レジスト ザイリョウ
書名別名 新しいレジスト材料とナノテクノロジー

Nanotekunoroji to rejisuto zairyo
シリーズ名 CMCテクニカルライブラリー 256
出版元 シーエムシー
刊行年月 2007.4
版表示 普及版
ページ数 253p
大きさ 21cm
ISBN 978-4-88231-921-4
NCID BA81772932
※クリックでCiNii Booksを表示
全国書誌番号
21316765
※クリックで国立国会図書館サーチを表示
言語 日本語
出版国 日本
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