クラスターイオンビーム基礎と応用 : 次世代ナノ加工プロセス技術

山田公 編著

本書は、イオンビーム技術の発展を、その技術的背景もあわせて示しながら、イオンビーム技術に初めて接する初心者にもわかりやすく説明しています。

「BOOKデータベース」より

[目次]

  • 1 イオンビーム技術の概要(イオンの発見
  • イオンビーム技術の誕生 ほか)
  • 2 ガスクラスタービームの発生(ガスクラスタービームの発生の原理
  • ガスクラスターイオンビーム装置 ほか)
  • 3 クラスターイオンビームと固体表面相互作用(クラスターイオンの個体表面衝突現象
  • ガスクラスターイオンの照射効果の特長 ほか)
  • 4 ナノ加工プロセス応用(半導体デバイス応用
  • 磁性・誘電体デバイス応用 ほか)
  • 5 産業用クラスターイオンビーム装置(ガスクラスターイオンビーム装置
  • デカボランイオン注入装置)

「BOOKデータベース」より

この本の情報

書名 クラスターイオンビーム基礎と応用 : 次世代ナノ加工プロセス技術
著作者等 山田 公
書名ヨミ クラスター イオン ビーム キソ ト オウヨウ : ジセダイ ナノ カコウ プロセス ギジュツ
書名別名 Kurasuta ion bimu kiso to oyo
出版元 日刊工業新聞社
刊行年月 2006.10
ページ数 223p
大きさ 21cm
ISBN 4526057657
NCID BA79102802
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全国書誌番号
21130821
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言語 日本語
出版国 日本
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