半導体デバイス : 基礎理論とプロセス技術

S.M.ジィー 著 ; 南日康夫, 川辺光央, 長谷川文夫 訳

本書は、最近の半導体デバイス物理と作製技術のほとんどを網羅した入門書である。デバイス形成の各段階において、評価と作製技術の理論と実際が集積回路に重点をおきつつ述べられている。

「BOOKデータベース」より

[目次]

  • 第1部 半導体物理(エネルギーバンドと熱平衡状態におけるキャリア密度
  • キャリアの輸送現象)
  • 第2部 半導体デバイス(p‐n接合
  • バイポーラ・トランジスタとその関連デバイス
  • MOSFETと関連デバイス ほか)
  • 第3部 半導体技術(結晶成長とエピタキシィ
  • 薄膜の形成
  • リソグラフィとエッチング ほか)

「BOOKデータベース」より

この本の情報

書名 半導体デバイス : 基礎理論とプロセス技術
著作者等 Sze, S. M
南日 康夫
川辺 光央
長谷川 文夫
ジィー S.M.
書名ヨミ ハンドウタイ デバイス : キソ リロン ト プロセス ギジュツ
書名別名 Semiconductor devices. (2nd ed.)

Handotai debaisu
出版元 産業図書
刊行年月 2004.3
版表示 第2版.
ページ数 499p
大きさ 27cm
ISBN 4782855508
NCID BA66576735
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全国書誌番号
20575646
※クリックで国立国会図書館サーチを表示
言語 日本語
原文言語 英語
出版国 日本
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