プラズマ半導体プロセス工学 : 成膜とエッチング入門

市川幸美, 佐々木敏明, 堤井信力 共著

本書は、プラズマプロセスの基礎を学ぼうとする大学生や大学院生、あるいは企業や研究機関において半導体プロセスに携わる開発者や研究者を対象に、プラズマCVDとエッチング技術の基礎を整理、解説したものである。

「BOOKデータベース」より

[目次]

  • 第1章 プラズマと半導体プロセス
  • 第2章 半導体プロセス用プラズマの基礎
  • 第3章 半導体プロセス装置の概要
  • 第4章 プラズマCVD技術
  • 第5章 薄膜の評価方法
  • 第6章 プラズマエッチング技術
  • 第7章 付章 プロセシングプラズマを理解するための基礎理論

「BOOKデータベース」より

この本の情報

書名 プラズマ半導体プロセス工学 : 成膜とエッチング入門
著作者等 佐々木 敏明
堤井 信力
市川 幸美
書名ヨミ プラズマ ハンドウタイ プロセス コウガク : セイマク ト エッチング ニュウモン
書名別名 Purazuma handotai purosesu kogaku
出版元 内田老鶴圃
刊行年月 2003.7
ページ数 289p
大きさ 22cm
ISBN 4753650480
NCID BA6324911X
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全国書誌番号
20452795
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言語 日本語
出版国 日本
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