薄膜技術の新潮流 : 多彩な新規応用をカバー

平尾孝, 吉田哲久, 早川茂 共著

薄膜技術が時代を支えているといっても過言ではない。高度情報化社会の到来により種々の情報・映像機器が登場しているが、これらの機器のキーデバイスとなる超LSI、ディスプレイ、磁気メモリ、光ディスクなどの作製に必須の技術となっているからである。本書ではこの技術の基礎から具体的な形成・加工技術、さらには広汎な応用技術までを詳説している。

「BOOKデータベース」より

[目次]

  • 第1章 はじめに
  • 第2章 薄膜技術の基礎(薄膜技術における真空、気体の性質
  • 原子・分子の励起・電離と衝突過程 ほか)
  • 第3章 薄膜形成技術(薄膜形成の基礎
  • 各種薄膜形成技術-I(PVD) ほか)
  • 第4章 加工技術(はじめに
  • ドライエッチング技術の基礎 ほか)
  • 第5章 薄膜技術の応用(センサ
  • 半導体デバイス ほか)

「BOOKデータベース」より

この本の情報

書名 薄膜技術の新潮流 : 多彩な新規応用をカバー
著作者等 吉田 哲久
平尾 孝
早川 茂
書名ヨミ ハクマク ギジュツ ノ シンチョウリュウ : タサイナ シンキ オウヨウ オ カバー
書名別名 Hakumaku gijutsu no shinchoryu
シリーズ名 K books series 128
出版元 工業調査会
刊行年月 1997.7
ページ数 258p
大きさ 19cm
ISBN 4769311575
NCID BA32017062
※クリックでCiNii Booksを表示
全国書誌番号
98077125
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言語 日本語
出版国 日本
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