紫外光励起を利用したシリコン基板へのエピタキシャル絶縁膜形成の基礎研究

研究代表者 中村哲郎

この本の情報

書名 紫外光励起を利用したシリコン基板へのエピタキシャル絶縁膜形成の基礎研究
著作者等 中村 哲郎
書名ヨミ シガイコウ レイキ オ リヨウシタ シリコン キバン エノ エピタキシャル ゼツエンマク ケイセイ ノ キソ ケンキュウ
書名別名 昭和62年度科学研究費補助金(一般研究B)研究成果報告書
シリーズ名 科学研究費補助金(一般研究(B))研究成果報告書
出版元 中村哲郎
刊行年月 1988.3
ページ数 51p
大きさ 26cm
NCID BA64063900
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言語 英語
出版国 日本
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