1996 1st International Symposium on Plasma Process-Induced Damage, 13-14 May 1996, Santa Clara, California, USA

Kim P. Cheung, Moritaka Nakamura, and Calvin T. Gabriel, editors ; technical co-sponsors, IEEE/Electron Devices Society, American Vacuum Society, Japanese Society of Applied Physics

この本の情報

書名 1996 1st International Symposium on Plasma Process-Induced Damage, 13-14 May 1996, Santa Clara, California, USA
著作者等 American Vacuum Society
Gabriel, Calvin T.
IEEE Electron Devices Society
応用物理学会
Cheung, Kin P.
Nakamura, Moritaka
International Symposium on Plasma Process-Induced Damage
書名別名 96TH8142
出版元 Northern California Chapter of the American Vacuum Society
刊行年月 c1996
ページ数 237 p.
大きさ 28 cm
ISBN 0780330617
0965157709
NCID BA30279308
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言語 英語
出版国 アメリカ合衆国
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