半導体・MEMSのための超臨界流体 = Supercritical Fluid Technology in MEMS and Semiconductor Processing

近藤英一 編著

[目次]

  • 1 超臨界流体とマイクロ・ナノプロセス
  • 2 半導体とMEMSの製造プロセス
  • 3 超臨界乾燥
  • 4 超臨界流体を用いた半導体・MEMS洗浄技術
  • 5 多孔質薄膜と細孔エンジニアリング
  • 6 めっきへの応用
  • 7 化学的薄膜堆積
  • 8 超臨界流体を用いたエッチング加工

「BOOKデータベース」より

この本の情報

書名 半導体・MEMSのための超臨界流体 = Supercritical Fluid Technology in MEMS and Semiconductor Processing
著作者等 上野 和良
曽根 正人
近藤 英一
堀 照夫
服部 毅
森口 誠
生津 英夫
内田 寛
書名ヨミ ハンドウタイ エムイーエムエス ノ タメ ノ チョウリンカイ リュウタイ
書名別名 Supercritical Fluid Technology in MEMS and Semiconductor Processing

Handotai emuiemuesu no tame no chorinkai ryutai
出版元 コロナ社
刊行年月 2012.9
ページ数 227p
大きさ 21cm
ISBN 978-4-339-00837-1
NCID BB10243699
※クリックでCiNii Booksを表示
全国書誌番号
22143919
※クリックで国立国会図書館サーチを表示
言語 日本語
出版国 日本
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