液浸リソグラフィのプロセスと材料 = Process and Ingredient of Immersion Lithography

東木達彦 監修

[目次]

  • 液浸リソグラフィーとは
  • 液浸露光用塗布現像装置
  • レチクル技術
  • 液浸リソグラフィの光学系
  • 液浸露光装置の開発
  • 液浸用レジストの開発
  • 液浸用トップコート材料
  • 液浸レジスト材料の評価
  • 含フッ素樹脂のリソグラフィ分野への応用
  • 偏光照明技術
  • 高NA投影レンズの開発
  • 次世代液浸露光用高屈折率液体の開発
  • 次世代液浸リソグラフィの光学系
  • 32nmハーフピッチに向けた今後のリソグラフィ展開

「BOOKデータベース」より

この本の情報

書名 液浸リソグラフィのプロセスと材料 = Process and Ingredient of Immersion Lithography
著作者等 東木 達彦
書名ヨミ エキシン リソグラフィ ノ プロセス ト ザイリョウ
書名別名 Process and Ingredient of Immersion Lithography

Ekishin risogurafi no purosesu to zairyo
シリーズ名 エレクトロニクスシリーズ
出版元 シーエムシー
刊行年月 2012.8
版表示 普及版.
ページ数 243p
大きさ 26cm
ISBN 978-4-7813-0550-9
NCID BB09913364
※クリックでCiNii Booksを表示
全国書誌番号
22140347
※クリックで国立国会図書館サーチを表示
言語 日本語
出版国 日本
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