光励起プロセスの基礎

高橋清 [ほか]編著

[目次]

  • 光励起プロセスの概論
  • 光励起プロセスの基礎
  • 表面反応・気相反応の基礎過程
  • 光励起プロセスによる膜形成の基礎過程
  • 反応の診断・計測
  • 光励起プロセスを用いた新しい製膜プロセス
  • 光励起エッチング反応とその応用
  • 光励起プロセスのデパイスへの応用
  • 光励起プロセスの将来展望

「BOOKデータベース」より

この本の情報

書名 光励起プロセスの基礎
著作者等 村田 好正
松波 弘之
英 貢
西沢 潤一
高橋 清
書名ヨミ ヒカリ レイキ プロセス ノ キソ
書名別名 プロセスの低温・無損傷化を実現

Hikari reiki purosesu no kiso
出版元 工業調査会
刊行年月 1994.3
ページ数 266p
大きさ 21cm
ISBN 4769311222
NCID BN10527941
※クリックでCiNii Booksを表示
全国書誌番号
94062662
※クリックで国立国会図書館サーチを表示
言語 日本語
出版国 日本
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