ナノ・インプリント技術によるシリコン薄膜の結晶位置と方位制御の研究

浅野種正研究代表

この本の情報

書名 ナノ・インプリント技術によるシリコン薄膜の結晶位置と方位制御の研究
著作者等 浅野 種正
書名ヨミ ナノ・インプリント ギジュツ ニヨル シリコン ハクマク ノ ケッショウ イチ ト ホウ イセイギョ ノ ケンキュウ
シリーズ名 科学研究費補助金(基盤研究(B))研究成果報告書
出版元 [九州工業大学]
刊行年月 2006.3
ページ数 1冊
大きさ 30cm
NCID BB05268985
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言語 英語
日本語
出版国 日本
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