強誘電体K(Ta,Nb)O[3]薄膜の合成と評価

鈴木一行 [著]

[目次]

  • 目次
  • 第1章 序論 / p1
  • 1-1 はじめに / p1
  • 1-2 誘電体セラミックス / p2
  • 1-3 K(Ta,Nb)O₃ / p17
  • 1-4 薄膜の合成 / p31
  • 1-5 本研究の目的 / p45
  • 1-6 文献 / p46
  • 第2章 K(Ta,Nb)O₃前駆体溶液の調製と構造解析 / p53
  • 2-1 はじめに / p53
  • 2-2 実験 / p53
  • 2-3 結果および考察 / p56
  • 2-4 結論 / p59
  • 2-5 文献 / p59
  • 第3章 K(Ta,Nb)O₃薄膜の合成 / p60
  • 3-1 はじめに / p60
  • 3-2 実験 / p60
  • 3-3 結果および考察 / p67
  • 3-4 結論 / p78
  • 3-5 文献 / p78
  • 第4章 K(Ta,Nb)O₃薄膜の電気的特性の評価 / p79
  • 4-1 はじめに / p79
  • 4-2 実験 / p79
  • 4-3 結果および考察 / p83
  • 4-4 結論 / p97
  • 4-5 文献 / p98
  • 第5章 K(Ta,Nb)O₃薄膜のUVパターニング / p99
  • 5-1 はじめに / p99
  • 5-2 実験 / p99
  • 5-3 結果および考察 / p107
  • 5-4 結論 / p117
  • 5-5 文献 / p117
  • 第6章 総括 / p118
  • 6-1 結論 / p118
  • 6-2 今後の課題 / p121
  • 著者発表論文 / p122
  • 謝辞 / p123

「国立国会図書館デジタルコレクション」より

この本の情報

書名 強誘電体K(Ta,Nb)O[3]薄膜の合成と評価
著作者等 鈴木 一行
書名ヨミ キョウユウデンタイ K(Ta,Nb)O3 ハクマク ノ ゴウセイ ト ヒョウカ
出版元 [出版者不明]
刊行年月 [1999]
ページ数 123p
大きさ 30cm
NCID BB13911726
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言語 日本語
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