極清浄雰囲気対応スパッタ装置の開発と作製された薄膜の磁性に関する研究

[目次]

  • 目次 / p1
  • 第1章 序論 / p1
  • 第1節 本研究の背景 / p1
  • 1-1 成膜雰囲気と薄膜の組織制御 / p1
  • 1-2 巨大磁気抵抗薄膜 / p3
  • 第2節 本研究の目的 / p6
  • 参照文献 / p11
  • 第2章 実験方法 / p14
  • 第1節 放出ガス量の測定 / p14
  • 第2節 残留ガス成分の測定 / p16
  • 2-1 四重極質量分析計 / p16
  • 2-2 インプロセスモニター / p16
  • 第3節 試料の作製方法 / p19
  • 3-1 基板の洗浄方法 / p19
  • 3-2 ターゲット / p20
  • 3-3 成膜方法 / p20
  • 3-4 熱処理方法 / p21
  • 第4節 磁気測定 / p25
  • 4-1 磁化曲線の測定 / p25
  • 4-2 動的微分磁化率の測定 / p25
  • 第5節 磁気抵抗効果の測定 / p29
  • 第6節 構造解析 / p33
  • 6-1 X線回折法 / p33
  • 6-2 透過電子顕微鏡 / p33
  • 第7節 組成分析 / p33
  • 7-1 電子線マイクロアナライザー / p33
  • 7-2 二次イオン質量分析法 / p33
  • 7-3 エネルギー分散型X線分光法 / p34
  • 第8節 表面観察 / p34
  • 8-1 原子間力顕微鏡 / p34
  • 8-2 走査電子顕微鏡 / p34
  • 第3章 極清浄雰囲気対応スパッタ装置の試作と基礎性能評価 / p36
  • 第1節 緒言 / p36
  • 第2節 スパッタ成膜プロセスの現状と問題点 / p38
  • 2-1 成膜雰囲気の汚染要素 / p38
  • 2-2 チャンバー内壁および要素部品からのガス放出 / p39
  • 2-3 プロセスガス / p40
  • 2-4 成膜雰囲気の清浄度 / p41
  • 第3節 極清浄雰囲気対応スパッタ装置の設計と試作 / p55
  • 3-1 設計指針 / p55
  • 3-2 真空チャンバーの内面処理 / p55
  • 3-3 要素部品 / p56
  • 3-4 プロセスガス供給系 / p60
  • 3-5 真空排気系 / p62
  • 3-6 極清浄雰囲気対応スパッタ装置 / p63
  • 第4節 試作したスパッタ装置の真空排気特性およびガス放出特性 / p89
  • 4-1 真空排気特性 / p89
  • 4-2 静的ガス放出特性 / p89
  • 4-3 動的ガス放出特性 / p90
  • 4-4 成膜雰囲気の清浄度(極清浄雰囲気の実現) / p91
  • 第5節 結言 / p100
  • 参照文献 / p103
  • 第4章 極清浄雰囲気対応スパッタ装置の成膜雰囲気清浄性の評価 / p104
  • 第1節 緒言 / p104
  • 第2節 四重極質量分析計およびインプロセスモニターの現状と問題点 / p106
  • 第3節 極清浄雰囲気対応四重極質量分析計およびインプロセスモニターの基礎性能 / p111
  • 第4節 極清浄雰囲気対応四重極質量分析計による残留ガス成分の評価 / p122
  • 4-1 残留ガス成分の到達真空度依存性 / p122
  • 4-2 加熱脱ガス処理により放出された残留ガス成分の評価 / p123
  • 4-3 排気速度を変化させた場合の残留ガス成分の変化 / p124
  • 第5節 インプロセスモニターによる極清浄成膜雰囲気中の不純物ガス成分の評価 / p136
  • 5-1 成膜プロセス時の不純物ガス成分の変化 / p136
  • 5-2 極清浄雰囲気下における不純物ガス成分の異常増加現象 / p137
  • 第6節 成膜雰囲気清浄性向上のための技術的課題 / p148
  • 第7節 結言 / p153
  • 参照文献 / p156
  • 第5章 極清浄雰囲気中で作製されたNi-Fe薄膜の構造と異常磁気抵抗効果並びに誘導磁気異方性 / p157
  • 第1節 緒言 / p157
  • 第2節 成膜雰囲気清浄性と薄膜の微細構造 / p159
  • 2-1 結晶構造と微細組織 / p159
  • 2-2 膜中不純物 / p162
  • 第3節 成膜雰囲気清浄性と薄膜の異常磁気抵抗効果 / p179
  • 3-1 異常磁気抵抗効果の膜厚依存性 / p179
  • 3-2 異常磁気抵抗効果の温度依存性 / p180
  • 第4節 成膜雰囲気清浄性と薄膜の誘導磁気異方性 / p186
  • 第5節 結言 / p193
  • 参照文献 / p196
  • 第6章 極清浄雰囲気中で作製されたCo-Cuグラニュラー薄膜の構造と巨大磁気抵抗効果 / p197
  • 第1節 緒言 / p197
  • 第2節 成膜雰囲気清浄性と薄膜の微細構造 / p200
  • 第3節 成膜雰囲気清浄性と薄膜の巨大磁気抵抗効果 / p219
  • 第4節 成膜雰囲気清浄性と薄膜の磁気特性 / p231
  • 第5節 成膜雰囲気清浄性とCo微結晶粒の析出過程 / p236
  • 第6節 結言 / p242
  • 参照文献 / p245
  • 第7章 結論 / p246
  • 謝辞 / p255

「国立国会図書館デジタルコレクション」より

この本の情報

書名 極清浄雰囲気対応スパッタ装置の開発と作製された薄膜の磁性に関する研究
著作者等 奥山 健太郎
書名ヨミ ゴクセイジョウ フンイキ タイオウ スパッタ ソウチ ノ カイハツ ト サクセイサレタ ハクマク ノ ジセイ ニ カンスル ケンキュウ
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