モンテカルロ法による軟磁性薄膜のマイクロ磁化機構の研究

[目次]

  • 第一章 序論 / p1
  • 1.1 磁気記録の高密度化 / p1
  • 1.2 マイクロマグネティックシミュレーションの必要性 / p1
  • 1.3 モンテカルロ法 / p2
  • 1.4 構成 / p2
  • 第二章 計算手法 / p4
  • 2.1 マイクロマグネティクス研究の歴史 / p4
  • 2.2 従来の計算手法の問題点 / p4
  • 2.3 モンテカルロシミュレーション / p8
  • 2.4 静磁エネルギーの過大評価について / p19
  • 第三章 磁壁エネルギーの計算 / p23
  • 3.1 磁壁構造の計算機シミュレーション / p23
  • 3.2 磁壁エネルギーの計算方法 / p24
  • 3.3 計算結果 / p29
  • 第四章 磁区構造シミュレーション / p58
  • 4.1 乱数の違いによる結果の比較 / p58
  • 4.2 180度磁壁の膜厚依存性 / p60
  • 4.3 磁区構造の磁気異方性定数依存性 / p65
  • 4.4 アスペクト比による単磁区化 / p71
  • 4.5 一様磁界による磁区構造変化 / p75
  • 第五章 磁気抵抗効果型ヘッドのシミュレーション / p77
  • 5.1 磁気抵抗薄膜シミュレーションの特徴 / p77
  • 5.2 一様磁界による磁化状態変化 / p77
  • 5.3 媒体からの漏れ磁束による磁化状態変化 / p83
  • 第六章 結論 / p87
  • 6.1 本研究の総括 / p87
  • 6.2 総合結論 / p89
  • 6.3 今後の展望 / p89
  • 6.4 今後の課題 / p89
  • 謝辞 / p91
  • 文献 / p92

「国立国会図書館デジタルコレクション」より

この本の情報

書名 モンテカルロ法による軟磁性薄膜のマイクロ磁化機構の研究
著作者等 丹 健二
書名ヨミ モンテカルロホウ ニ ヨル ナンジセイ ハクマク ノ マイクロ ジカ キコウ ノ ケンキュウ
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