短波長レーザー記録に適した光磁気記録材料に関する研究

[目次]

  • 論文目録
  • 目次
  • 第1章 緒論 / p1
  • 1.1 本研究の目的 / p1
  • 1.2 本研究の内容 / p2
  • 第2章 光磁気記録ディスク / p5
  • 2.1 記録再生方式の原理 / p5
  • 2.2 光磁気記録材料 / p6
  • 2.3 光磁気記録に用いられる誘電体材料 / p7
  • 2.4 光磁気記録の問題点 / p8
  • 第3章 重希土類-3d遷移金属非晶質膜への軽希土類添加効果 / p10
  • 3.1 目的 / p10
  • 3.2 実験方法 / p12
  • 3.3 実験結果及び考察 / p12
  • 3.4 結論 / p14
  • 第4章 交換結合二層記録媒体に用いられる窒素欠損窒化シリコン膜の光学特性と安定性 / p15
  • 4.1 目的 / p15
  • 4.2 光学計算によるSiNxの有用性 / p16
  • 4.3 実験方法 / p17
  • 4.4 実験結果及び考察 / p18
  • 4.5 結論 / p21
  • 第5章 MnBi薄膜の磁気及び磁気光学特性 / p23
  • 5.1 目的 / p23
  • 5.2 実験方法 / p25
  • 5.3 実験結果 / p27
  • 5.4 考察 / p30
  • 5.5 結論 / p32
  • 第6章 MnBi光磁気ディスクの繰り返し記録特性 / p34
  • 6.1 目的 / p34
  • 6.2 実験方法 / p35
  • 6.3 実験結果 / p35
  • 6.4 考察 / p36
  • 6.4 結論 / p39
  • 第7章 MnBi薄膜の低温合成法の開発及びフォトポリマー基板を用いたMnBi光磁気ディスクの記録再生特性 / p40
  • 7.1 目的 / p40
  • 7.2 MnBi薄膜の低温結晶成長 / p40
  • 7.3 2P基板MnBiディスクの作製 / p42
  • 7.4 結論 / p43
  • 第8章 MnBi光磁気ディスクの媒体ノイズの発生要因とその低減 / p44
  • 8.1 目的 / p44
  • 8.2 MnBi光磁気ディスクの媒体ノイズの発生要因 / p44
  • 8.3 Bi層の2段階成膜法によるMnBiディスクの作製 / p46
  • 8.4 結論 / p48
  • 第9章 総括と結論 / p50
  • 9.1 研究の成果 / p50
  • 9.2 本研究の工学的および工業的価値 / p51
  • 9.3 今後に残された問題 / p52
  • 付録 仮想屈折率法による光学計算 / p53
  • 謝辞 / p55
  • 引用文献 / p56

「国立国会図書館デジタルコレクション」より

この本の情報

書名 短波長レーザー記録に適した光磁気記録材料に関する研究
著作者等 中田正

中田
書名ヨミ タンハチョウ レーザー キロク ニ テキシタ ヒカリ ジキ キロク ザイリョウ ニ カンスル ケンキュウ
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