超LSI用光リソグラフィの高解像度化に関する研究

[目次]

  • 論文目録
  • 要旨
  • 目次
  • 第1章 序論 / p1
  • 1.1 大規模集積回路と素子の微細化 / p1
  • 1.2 リソグラフィ技術 / p3
  • 1.3 光リソグラフィの限界要因 / p4
  • 1.4 結論及び本論文の概要 / p10
  • 第1部 焦点深度を考慮した光リソグラフィの限界解析 / p14
  • 第2章 縮小投影露光法 / p15
  • 2.1 縮小投影露光法の概要 / p15
  • 2.2 格子像と点像の結像 / p17
  • 2.3 解析方法 / p21
  • 2.4 結論 / p24
  • 第3章 焦点深度を考慮した実用解像度解析法 / p26
  • 3.1 実用解像度 / p26
  • 3.2 寸法-デフォーカス空間における解像限界 / p29
  • 3.3 実用解像度の定式化 / p32
  • 3.4 結論 / p33
  • 第4章 従来光リソグラフィの限界 / p35
  • 4.1 実用解像度のNA依存性 / p35
  • 4.2 露光波長及び必要焦点深度の影響 / p35
  • 4.3 レジストプロセスの影響 / p37
  • 4.4 結論 / p40
  • 第2部 像改良法による光リソグラフィの高解像力化 / p43
  • 第5章 既存像改良法の効果と問題点 / p44
  • 5.1 位相シフト法の効果 / p44
  • 5.2 位相シフト法の問題点 / p50
  • 5.3 変形照明法の効果 / p56
  • 5.4 変形照明法の問題点 / p62
  • 5.5 結論 / p65
  • 第6章 多重結像露光法(FLEX法) / p67
  • 6.1 多重結像露光法(FLEX法) / p67
  • 6.2 シミュレーションによる検証 / p69
  • 6.3 実験結果 / p77
  • 6.4 FLEX法における実用解像度 / p80
  • 6.5 結論 / p82
  • 第7章 多重振幅結像露光法(Super-FLEX法) / p86
  • 7.1 多重振幅結像(Super-FLEX)効果 / p87
  • 7.2 瞳フィルタリングによるSuper-FLEX法-シミュレーションによる効果の検証 / p93
  • 7.3 Super-FLEX法における実用解像度 / p102
  • 7.4 瞳フィルタリングによるSuper-FLEX法-瞳フィルターレンズによる露光実験 / p104
  • 7.5 マスク変調法によるSuper-FLEX効果 / p114
  • 7.6 結論 / p118
  • 第8章 瞳フィルタ一による空問周波数特性改良 / p120
  • 8.1 瞳フィルターによる空間周波数特性改善 / p121
  • 8.2 エッジ強調型位相シフトマスクによる空間周波数特性改善 / p128
  • 8.3 実用解像度 / p128
  • 8.4 結論 / p131
  • 第9章 像改良法を用いた光リソグラフィの限界 / p132
  • 9.1 各種像改良法の分類比較 / p132
  • 9.2 光リソグラフィの今後の展開 / p136
  • 第10章 総論 / p139
  • 謝辞 / p143
  • 著者論文、学会発表一覧 / p144

「国立国会図書館デジタルコレクション」より

この本の情報

書名 超LSI用光リソグラフィの高解像度化に関する研究
著作者等 福田 宏
書名ヨミ チョウLSIヨウ ヒカリ リソグラフィ ノ コウカイゾウドカ ニ カンスル ケンキュウ
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